真空乾燥装置（VCD/HVCD）

製品概要

塗布膜の溶剤を真空下で蒸発させ、下流工程でのムラの発生を抑制する装置です。
塗工液の種類及び塗布膜厚に応じ、常温で乾燥するVCDと加熱乾燥するHVCDの2種類があります。加熱しながら乾燥させることで時間短縮となり、生産性に寄与できます。
蒸発した溶剤はトラップタンクで凝集させ、回収します。

主な用途

乾燥・焼成時にムラが発生しやすい塗布膜の予備乾燥として使用

装置仕様

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