熱処理装置
真空乾燥装置（VCD/HVCD）
塗布膜の溶剤を真空下で蒸発させ、下流工程でのムラの発生を抑制する装置です。
塗工液の種類及び塗布膜厚に応じ、常温で乾燥するVCDと加熱乾燥するHVCDの2種類があります。加熱しながら乾燥させることで時間短縮となり、生産性に寄与できます。
蒸発した溶剤はトラップタンクで凝集させ、回収します。
主な用途
●乾燥・焼成時にムラが発生しやすい塗布膜の予備乾燥として使用
装置仕様
●対応基板寸法：G2.5（360mm×460mm）〜2,600mm×2,600mm
●塗工膜厚 ：Dry 1μm〜30μm
●クリーン度 ：Class10
