真空干燥设备(VCD/HVCD)

真空干燥设备(VCD/HVCD)

产品概览 该设备在真空条件下蒸发涂膜中的溶剂,以防止下游工艺出现不均匀现象。
根据涂膜液类型和涂膜厚度的不同,可分为两种类型:室温干燥的 VCD 和加热干燥的 HVCD。加热干燥可节省时间并提高生产率。
蒸发的溶剂凝结后收集到一个捕集罐中。
主要应用: 作为预干燥工艺,用于干燥和烧制过程中容易出现不均匀的涂膜。
设备规格
兼容电路板尺寸 G2.5(360 毫米 x 460 毫米)- 2,600 毫米 x 2,600 毫米
涂层厚度 干燥 1 微米 - 30 微米
清洁度 第十班

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